高純度無機製品 高純度六塩化ニケイ素

「高純度六塩化ニケイ素(HCD®)」は、当社が世界で初めて工業化した半導体用成膜材料です。当社独自の技術で製造し、その高い品質安定性から世界でトップシェアを誇ります。

商品名
HCD®
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特長

「高純度六塩化ニケイ素(HCD®)」は、高い反応性と保管安定性を兼ね備えており、Si(シリコン)プレカーサーとして低温成膜に利用できます。半導体用のSiO2膜やSiNx膜形成に適しており、最新世代の半導体微細配線形成に欠かせない材料となっています。

用途

「高純度六塩化ニケイ素(HCD®)」をSi(シリコンプレカーサー)とし、各種CVD、ALD工程で酸素系又は窒素系物質と反応させて成膜することで高い精度のSiOx膜やSiNx膜、あるいはSiOxNy膜を得られます。

仕様

  • 品質
    金属ベース純度で >99.9999%の高純度品です。
  • 容器
    金属製各種シリンダーで提供しております。
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